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Productos
Objetivos de pulverización catódica de óxido de magnesio (MgO)
Diana cerámica de magnesia 4N (99.9%) de alta pureza. El precio es solo de referencia, comuníquese con el servicio al cliente para solicitar una cotización.
| Elemento: | MgO |
|---|---|
| Pureza: | 3N5 4N |
| Forma: | Objetivo plano |
| MOQ: | 1PC |
| Ruta | Envasado al vacío de tres capas o protección con gas argón, de acuerdo con las especificaciones de envasado IATA y DOT |
Descripción general
Propiedades físicas y químicas
El objetivo cerámico de magnesia es un material de pulverización catódica de óxido que contiene Mg y O, con una densidad de 3.58 g/cm3, un punto de fusión de 2852 °C y un punto de ebullición de 3600 °C. El objetivo cerámico de óxido de magnesio tiene un alto rendimiento de aislamiento refractario, excelente resistencia a ácidos y álcalis y aislamiento eléctrico a altas temperaturas, buena transmitancia de luz, alta conductividad térmica y un gran coeficiente de expansión lineal; la película de MgO preparada por calentamiento y evaporación se encuentra en la región visible. Sin película absorbente, sustrato calentado.
parámetros relacionados
Apariencia: blanco
Dureza: 6.0-6.5
La temperatura de evaporación bajo vacío de 10ˉ4 es: 1500 ℃
Soluble en: ácido fuerte, insoluble en agua y etanol.
Banda transparente: 200-8000nm
Índice de refracción (longitud de onda/nm): 1.85(220) 1.7(500)
aplicación de destino
Aplicado a películas multicapa, también se usa ampliamente en caucho, plástico, rayón, pintura, esmalte, refractarios, etc.
Materiales cerámicos relacionados con la farfulla
| Objetivos de pulverización catódica de óxido | ||||
|---|---|---|---|---|
| Óxido de aluminio (Al2O3) | Tetróxido de hierro (Fe3O4) | Niquelato de lantano (LaNiO3) | Óxido de escandio (Sc2O3) | Óxido de zinc y aluminio (AZO) |
| Óxido de flúor y estaño (FTO) | Ferrita de lantano (LaFeO3) | Titanato de estroncio (SrTiO3) | Óxido de estaño y antimonio (ATO) | Óxido de galio (Ga2O3) |
| Manganato de lantano (LaMnO3) | Rutenato de estroncio (SrRuO3) | Óxido de bismuto (Bi2O3) | Óxido de galio y zinc (GZO) | Óxido de magnesio (MgO) |
| Manganato de estroncio (SrMnO3) | Titanato de bismuto (BiTiO3) | Óxido de gadolinio (Gd2O3) | Óxido de molibdeno (MoO3) | Dióxido de titanio (TiO2) |
| Titanato de bario (BaTiO3) | Dióxido de hafnio (HfO2) | Óxido de niobio (Nb2Ox) | Pentóxido de titanio (Ti3O5) | Óxido de cerio (CeO2) |
| Óxido de holmio (Ho2O3) | Óxido de níquel (NiO) | Óxido de tantalio (Ta2O5) | Óxido de cromo (Cr2O3) | Óxido de indio (In2O3) |
| Óxido de neodimio (Nd2O3) | Óxido de terbio (Tb4O7) | Óxido de cobalto (CoO) | Óxido de indio y estaño (ITO) | Óxido de plomo (PbO) |
| Óxido de tulio (Tm2O3) | Óxido de cobre (CuO) | Óxido de indio y zinc (IZO) | Óxido de zinc y estaño (ZTO) | Dióxido de vanadio (VO2) |
| Óxido cuproso (Cu2O) | Óxido de zinc, galio e indio (IGZO) | Óxido de praseodimio (Pr6O11) | Trióxido de vanadio (V2O3) | Óxido de erbio (Er2O3) |
| Óxido de lantano (La2O3) | Monóxido de silicio (SiO) | Pentóxido de vanadio (V2O5) | Óxido de europio (Eu2O3) | Óxido de lantano, estroncio y cobalto (LSCO) |
| Dióxido de silicio (SiO2) | Trióxido de tungsteno (WO3) | Trióxido de hierro (Fe2O3) | Aluminato de lantano (LaAl2O3) | Óxido de samario (Sm2O3) |
| Óxido de itrio (Y2O3) | Óxido de itrio y circonio (YSZ) | Óxido de itrio, bario y cobre (YBCO) | Óxido de zinc (ZnO) | Óxido de circonio (ZrO2) |
| Objetivos de pulverización catódica de fluoruro | ||||
| Fluoruro de aluminio (AlF3) | Fluoruro de disprosio (DyF3) | Fluoruro de neodimio (NdF3) | Fluoruro de praseodimio (PrF3) | Fluoruro de itrio (YF3) |
| Fluoruro de bario (BaF2) | Fluoruro de litio (LiF) | Fluoruro de sodio (NaF) | Fluoruro de estroncio (SrF3) | Fluoruro de zinc (ZnF3) |
| Fluoruro de calcio (CaF2) | Fluoruro de lantano (LaF3) | Fluoruro de aluminio y sodio (Na2AlF6) | Fluoruro de samario (SmF3) | Fluoruro de iterbio (YbF3) |
| Fluoruro de cerio (CeF3) | Fluoruro de magnesio (MgF2) | Fluoruro de potasio (KF) | ||
| Objetivos de pulverización catódica de nitruro | ||||
| Nitruro de aluminio (AlN) | Nitruro de hafnio (HfN) | Nitruro de silicio (Si3N4) | Nitruro de titanio (TiN) | Nitruro de circonio (ZrN) |
| Nitruro de boro (BN) | Nitruro de niobio (NbN) | Nitruro de tantalio (TaN) | Nitruro de vanadio (VN) | |
| Objetivos de pulverización catódica de carburo | ||||
| Carburo de boro (B4C) | Carburo de niobio (NbC) | Carburo de tantalio (TaC) | Carburo de tungsteno (WC) | Carburo de circonio (ZrC) |
| Carburo de hafnio (HfC) | Carburo de níquel (NiC) | Carburo de titanio (TiC) | Cobalto de carburo de tungsteno (WC+Co) | Carburo de vanadio (VC) |
| Carburo de molibdeno (MoC) | Carburo de silicio (SiC) | Carbonitruro de titanio (TiCN) | ||
| Objetivos de pulverización catódica de boruro | ||||
| Diboruro de cromo (CrB2) | Boruro de hierro (FeB) | Boruro de tantalio (TaB) | Diboruro de titanio (TiB2) | Diboruro de hafnio (HfB2) |
| Hexaboruro de lantano (LaB6) | Diboruro de circonio (ZrB2) | |||
| Objetivos de pulverización catódica de sulfuro | ||||
| Sulfuro de cadmio (CdS) | Sulfuro de hierro (FeS) | Sulfuro de manganeso (MnS) | Sulfuro de tantalio (TaS) | Sulfuro de magnesio (MgS) |
| Sulfuro de cobre (CuS) | Sulfuro de plomo (PbS) | Sulfuro de niobio (NbS) | Sulfuro de tungsteno (WS2) | Sulfuro de antimonio (Sb2S3) |
| Sulfuro de cerio (Ce2S3) | Sulfuro de molibdeno (MoS2) | Sulfuro de indio (In2S3) | Sulfuro de zinc (ZnS) | |
| Objetivos de pulverización de siliciuro | ||||
| Siliciuro de cromo (CrSi) | Siliciuro de magnesio (MgSi) | Siliciuro de tantalio (TaSi2) | Siliciuro de tungsteno (WSi2) | Siliciuro de circonio (ZrSi2) |
| Siliciuro de molibdeno (MoSi2) | Siliciuro de níquel (NiSi) | Siliciuro de titanio (TiSi2) | Siliciuro de vanadio (VSi) | |
| Objetivos de pulverización de seleniuro | ||||
| Seleniuro de bismuto (Bi2Se3) | Seleniuro de cromo (CrSe) | Seleniuro de molibdeno (MoSe2) | Seleniuro de galio (Ga2Se3) | Seleniuro de tungsteno (WSe2) |
| Seleniuro de cobre (Cu2Se) | Seleniuro de plomo (PbSe) | Seleniuro de indio (In2Se3) | Seleniuro de germanio (GeSe2) | Seleniuro de estaño (SnSe) |
| Seleniuro de cadmio (CdSe) | Seleniuro de antimonio (Sb2Se3) | |||
| Objetivos de pulverización catódica de telururo | ||||
| Telururo de cadmio (CdTe) | Telururo de plomo (PbTe) | Telururo de germanio (GeTe) | Telururo de germanio y antimonio (GST) | Telururo de bismuto (Bi2Te3) |
| Tritelururo de antimonio (Sb2Te3) | Tritelururo de antimonio (Sb7Te3) | |||
| Blancos de pulverización de antimonuro | ||||
| Antimonuro de aluminio (AlSb) | Antimonuro de indio (InSb) | Antimonuro de galio (GaSb) | Antimonuro de zinc (ZnSb) | Antimonuro de galio y aluminio (AlGaSb) |
| Objetivos de pulverización compuesto para baterías ferroeléctricas/de litio | ||||
| Óxido de litio y cobalto LiCoO2 | Óxido de níquel, manganeso y litio LiNi0.5Mn1.5O3 | Fosfato de hierro y litio LiFePO4 | Óxido de cobalto y litio rico en litioLi(1+X)CoO2 | Manganato de litio rico en litioLi(1+X)Mn2O4 |
| Titanato de litioLi4Ti5O12 | Óxido de cobalto y litio dopado con aluminio AlLiCoO2 | Manganato de litio dopado con aluminio LiMn2O4+Alx | Fosfato de litio y titanioLiTi2(PO4)3 | Manganato de litio LiMn2O4 |
| Fosfato de litio Li3PO4 | Fosfato de litio y silicio LiSiPO4 | Titanato de barioBaTiO3 | Titanato de EstroncioSrTiO3 | Titanato de bismutoBiTiO3 |
| Lantano Estroncio Cobalto Óxido LSCO | Óxido de lantano, calcio y manganeso LCMO | Óxido de litio y cobalto LiCo2O4 | Titanato de circonato de plomo PZT | Fosfato de litio dopado con óxido de boro Li3PO4:B2O3 |
| Titanato de litio y lantano Li0.35La0.57TiO3 | Lantano Circonio Óxido de Litio LLZO | Lantano Estroncio Óxido de Manganeso LSMO | Ferrita De BismutoBiFeO3 | Titanato de bario y estroncio BaSrTiO3 |
Suministro de blancos de pulverización catódica de óxido de magnesio (MgO) a ciudades de
